感应耦合等离子体刻蚀机

Si材料刻蚀

型号:Plasmalab system 100 ICP180
气源:C4F8、SF6
刻蚀模式:等离子

用途:主要用于Si材料刻蚀。

典型应用:微纳波导,微机电系统(MEMS)、微腔等器件的制作


加工价格

化合物ICP:每小时841元

硅ICP:每小时857元




服 务 商:
服务资质:
企业测试商
公司名称:
华中科大光电国家实验室
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